戴安淋洗液發生器（貨號：074532）

產品簡介

淋洗液發生器用來電解產生高純度淋洗液等度或梯度淋洗。淋洗液發生器能避免基線漂移，增加靈敏度，提高分離度，保證色譜峰積分良好重復性。戴安公司目前提供一系列的淋洗液發生罐產品，包括氫氧根體系淋洗液發生罐，碳酸根體系淋洗液發生罐和甲磺酸體系淋洗液發生罐。

產品型號：

更新時間：2025-02-23

廠商性質：代理商

訪問量：2243

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產品分類

液相色譜柱

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品牌	Thermofisher Scientific/賽默飛世爾	產地類別	進口
應用領域	醫療衛生,食品/農產品,化工,制藥/生物制藥,綜合

    產品介紹

    適用于（設備）傳統RFIC-EG系統（高達3,000psi）類型氫氧化鉀淋洗液發生罐流速0.1至3.00mL/min。壓力最大值：21MPa(3000psi)溶劑25%甲醇操作用于產生氫氧化物淋洗液。濃度0.1至100mM描述DionexEGCIIIKOH氫氧化鉀淋洗液發生罐UnitSizeEach

    利用淋洗液生成功能，防止基線漂移、提高靈敏度、改善分離度并確保一致的峰積分。有各種ThermoScientific™Dionex™EGC淋洗液發生罐可供生成氫氧化物、碳酸鹽、碳酸氫鹽和甲磺酸淋洗液。淋洗液自動生成消除了傳統的IC淋洗液制備方法中對于酸和堿的處理需求，并且允許色譜分析工作人員運行全范圍的梯度和等度分離，且效率比手工制備淋洗液更高。

    自動產生高純度淋洗液

    ·與ThermoScientific™Dionex™ICS-5000+HPIC™、ICS-6000和ICS-2100系統配合使用

    ·用于等度或梯度分離

    ·DionexEGC400淋洗液發生罐僅用于在雙EGC模式下供DionexICS-6000HPIC系統執行復雜糖類化合物分析

    ·獲得出色的批次間重現性

    ·免除了對酸和堿的處理

    ·減少泵維護并延長使用壽命；泵只會接觸去離子水

    ·流速范圍廣泛，典型的從標準孔柱到毛細管柱均適用

    ·與可承受高達5000psi壓力（34.5MPa，僅限DionexEGC毛細管型和EGC500）的高壓離子色譜系統配合使用

    產品特點

    ·DionexEGCIII和EGC500淋洗液發生罐在1.0mL/min下支持的濃度范圍為0.1–100mM(0.1–80mMEGCIIILiOH)

    ·DionexKOH、NaOH和LiOH淋洗液發生罐支持最高濃度達25%的甲醇

    ·DionexK2CO3和MSA淋洗液發生罐與有機溶劑不兼容

    ·DionexEGC（毛細管）淋洗液發生罐在0.010mL/min下與1-30µL/min(0.001-0.030mL/min)的流速范圍內支持的濃度范圍為0.1–200mM

    ·DionexEGC-KOH（毛細管）淋洗液發生罐支持最高濃度為25%的甲醇

    ·DionexEGC-MSA（毛細管）淋洗液發生罐與有機溶劑不兼容

    ·適用于復雜糖類化合物的雙EGC模式

    ·通過在雙淋洗液發生罐（雙EGC）模式下運行DionexICS-6000HPIC系統來自動產生淋洗液梯度，以分析復雜糖類化合物。這種新選擇將甲磺酸(MSA)EGC400淋洗液發生罐和氫氧化鉀(KOH)EGC400淋洗液發生罐互相串聯使用，可產生重現性和準確性Extremelyhigh的KOH/KMSA淋洗液梯度來分析復雜糖類化合物（如低聚糖）。

    產品訂貨信息:

    淋洗液發生器

產品描述	部件號
Potassium Hydroxide Eluent Generator Cartridge （EGC III KOH）	74532
Sodium Hydroxide Eluent Generator Cartridge （EGC III NaOH）	74533
Lithium Hydroxide Eluent Generator Cartridge （EGC III LiOH）	74534
Carbonate Eluent Generator Cartridge （EGC III K2CO3）	74536
Electroytic pH Modifier （EPM III）	80135
Methanesulfonic Acid Eluent Generator Cartridge （EGC III MSA）	74535
EGC-KOH （Capillary） Cartridge	72076
EGC-MSA （Capillary） Cartridge	72077

產品貨號	產品描述	適用于
74532	Dionex EGC III KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐	傳統 RFIC-EG 系統(高達 3,000 psi)
88453	Dionex EGC 500 K2CO3 碳酸鉀淋洗液發生罐	Dionex ICS-5000+、ICS-6000 HPIC 系統
74533	Dionex EGC III NaOH *淋洗液發生罐	傳統 RFIC-EG 系統(高達 3,000 psi)
74534	Dionex EGC III LiOH 氫氧化鋰淋洗液發生罐	傳統 RFIC-EG 系統( 耐壓達 3,000 psi)
74535	Dionex EGC III MSA 淋洗液發生罐	傳統 RFIC-EG 系統耐壓高達 3,000 psi
72076	Dionex EGC-KOH氫氧化鉀淋洗液發生罐,毛細管型	ICS-4000毛細管 HPIC系統和Dionex ICS-5000+毛細管系統
72077	Dionex EGC-MSA 甲磺酸淋洗液發生罐,毛細管型	ICS-4000 毛細管 HPIC系統和Dionex ICS-5000+毛細管系統
75778	Dionex EGC 500 KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐	Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC系統
75779	Dionex EGC 500 MSA 甲磺酸淋洗液發生罐	Integrion、ICS-5000+、ICS-6000 HPIC系統
302766	Dionex EGC 400 KOH 氫氧化鉀淋洗液發生罐	Dionex ICS-6000 HPIC 標準孔/微孔或混合型系統可采用雙EGC模式
302767	Dionex EGC 400 MSA 甲磺酸淋洗液發生罐	Dionex ICS-6000 HPIC 標準孔/微孔或混合型系統可采用雙EGC模式

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